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濕法清洗設備
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濕法清洗設備
ACM Ultra C SAPS 單片清洗設備
ACM主要開展半導體設備研究、開發(fā)、設計、制造、銷售以及售后服務等業(yè)務，專注于濕法工藝設備，包括：無應力拋光設備，電化學鍍銅設備和單片兆聲清洗設備。盛美半導體設備設備擁有完善的自主產(chǎn)權(quán)和相關專利，目前申請超過140項國際及國內(nèi)專利，并有超過60項已獲得授權(quán)。
- 資料說明
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應用領域
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CT（可選項）
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