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濕法清洗設(shè)備
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濕法清洗設(shè)備

濕法清洗設(shè)備

ACM Ultra C SAPS 單片清洗設(shè)備

      ACM主要開展半導(dǎo)體設(shè)備研究、開發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售以及售后服務(wù)等業(yè)務(wù),專注于濕法工藝設(shè)備,包括:無應(yīng)力拋光設(shè)備,電化學(xué)鍍銅設(shè)備和單片兆聲清洗設(shè)備。盛美半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)備擁有完善的自主產(chǎn)權(quán)和相關(guān)專利,目前申請(qǐng)超過140項(xiàng)國(guó)際及國(guó)內(nèi)專利,并有超過60項(xiàng)已獲得授權(quán)。
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